UNIVERSA

Batchanlage zur Beschichtung von 3D - Substraten

Versuchsanlage im Produktionsmaßstab mit hoher Flexibilität, ausgestattet mit

  • zwei Dualmagnetronsystemen mit 50 kW-Pulsspannungsversorgungen,
  • einer Hohlkatodenquelle zur zusätzlichen Plasmaerzeugung,
  • einer Pulsspannungsquelle für die Plasma(vor-)behandlung,
  • einer Einrichtung zur Substratheizung bis 700°C,
  • 1-, 2- oder 3-facher Substratrotation,
  • Einrichtungen zur Prozeßregelung, Meßwerterfassung und Plasmadiagnostik

Typische Substrate

  • Beschichtung von Substraten dreidimensionaler Geometrie in typischen Abmessungen von 10 × 10 × 10 mm3 bis maximal 500 × 500 × 500 mm3

Aufgabenspektrum

  • Schicht-, Technologie- und Verfahrensentwicklung
  • Machbarkeitsstudien
  • Musterbeschichtung
  • Kleinserienbeschichtung
  • Erprobung technologischer Komponenten

Anlagenvideo