VERSA

Versuchsanlage zur plasmaaktivierten Elektronenstrahlbedampfung

Vakuumbeschichtungsanlage mit Hochleistungselektronenstrahlausrüstung (300 kW) zur plasmaaktivierten Bedampfung unter aufskalierbaren Bedingungen

Typische Substrate

  • Beschichtung von Platten aus Metall, Kunststoff, Glas oder Keramik mit einer maximalen Abmessung von 120 mm × 200 mm
  • Beschichtung von dreidimensionalen Bauteilen

Aufgabenspektrum

  • Technologieentwicklung, insbesondere neuer Plasmaprozesse bei der Hochratebedampfung und Substratvorbehandlung
  • Entwicklung neuer PVD-Schichtsysteme
  • Grundlegende Untersuchungen zur plasmaaktivierten Elektronenstrahlbedampfung
  • Musterbeschichtungen

Anlagenvideo