Batchanlage zur Beschichtung von 3D - Substraten
Versuchsanlage im Produktionsmaßstab mit hoher Flexibilität, ausgestattet mit
 
- zwei Dualmagnetronsystemen mit 50 kW-Pulsspannungsversorgungen,
 - einer Hohlkatodenquelle zur zusätzlichen Plasmaerzeugung,
 - einer Pulsspannungsquelle für die Plasma(vor-)behandlung,
 - einer Einrichtung zur Substratheizung bis 700°C,
 - 1-, 2- oder 3-facher Substratrotation,
 - Einrichtungen zur Prozeßregelung, Meßwerterfassung und Plasmadiagnostik
 
Typische Substrate
- Beschichtung von Substraten dreidimensionaler Geometrie in typischen Abmessungen von 10 × 10 × 10 mm3 bis maximal 500 × 500 × 500 mm3
 
Aufgabenspektrum
- Schicht-, Technologie- und Verfahrensentwicklung
 - Machbarkeitsstudien
 - Musterbeschichtung
 - Kleinserienbeschichtung
 - Erprobung technologischer Komponenten
 
                        Fraunhofer-Institut für Elektronenstrahl-