Fraunhofer-Institut für Elektronenstrahl-
und Plasmatechnik FEP
Fraunhofer-Institut für Elektronenstrahl-
und Plasmatechnik FEP

MAXI

Probleme mit der Darstellung? Öffnen Sie die Tour in einem eigenen Fenster!

Die In-line Vakuum-Beschichtungsanlage für Platten und metallische Bänder "MAXI" des Fraunhofer FEP bietet eine hochmoderne Lösung für die effiziente Beschichtung dünner Metallbänder und Platten.

Sie bewältigt Herausforderungen wie plastische Verformungen und kritische Zuglasten durch spezielle Vorreinigung, Vorbehandlung, Kühlung und Nachbehandlung. Die Anlage ermöglicht die präzise Abscheidung von Dünnschichten in einem kontinuierlichen Prozess, was hohe Produktionsgeschwindigkeiten und gleichbleibende Qualität gewährleistet.

Durch die Kombination von Vakuumtechnologie und fortschrittlichen Beschichtungsverfahren können vielfältige Materialien optimal bearbeitet werden. Die MAXI-Anlage bietet zudem Flexibilität in der Anpassung der Beschichtungsparameter, um spezifische Anforderungen verschiedener Anwendungen zu erfüllen.

Ideal für die Industrie und Forschung, trägt diese Technologie zur Entwicklung neuer Produkte und Anwendungen bei. Entdecken Sie die Möglichkeiten der MAXI-Anlage und profitieren Sie von modernster Beschichtungstechnik.

Elektronenstrahl-Bedampfung
SAD-Prozess
Puls-Magnetron-Sputtern

Beschichtungsverfahren

  • Hochrate-Elektronenstrahl-Bedampfung
  • Verdampfung von Metallen, Legierungen und Verbindungen
  • plasmaaktivierte Prozessführung (HAD und SAD Prozesse)
  • reaktive Prozessführung
  • Puls-Magnetron-Sputtern
  • andere PVD-Verfahren (z. B. Jet-Verdampfer)
  • PECVD-Prozesse

Technische Daten

Allgemein modulares System mit 8 Kammern
Dimensionen Länge / Breite / Höhe: 14 m / 2,5 m / 4 m
Beschichtungsbreite bis zu 500 mm
Substratgeschwindigkeit 0,001 … 1,0 m/s
Bandabmessungen
  • Breite: bis zu 300 mm
  • Dicke: 0,015 mm bis 1,5 mm
  • max. Masse: 1000 kg
Plattenabmessungen
  • max. Größe: 500 mm × 500 mm
  • max. Masse: 15 kg
1. Elektronenkanone max. Leistung: 160 kW
2. Elektronenkanone max. Leistung: 300 kW
sonstige Ausrüstung
  • Strahlungsheizer: max. Leistung 60 kW
  • Einige Ionenätzer max. Leistung 30 kW
  • Dual-Magnetron-Sputter-System (DMS-System): max. Leistung 30 kW
  • Stromversorgung zur Plasmaaktivierung, Bogenstrom max. 3000 A
  • Magnetfalle zur EB-Verdampfung für die Beschichtung von temperaturempfindlichen Substraten
  • Wendeeinrichtung zur Zweiseitenbeschichtung von Platten
  • Röntgenfluoreszenz-Schichtdicken-Messsystem (XRF)
  • Optische Schichtdickenmessung mit Weißlicht-Spektrometer
Magnetfeldverstärkter Ionenätzer
Strahlungsheizer
Nachbehandlungsstation
Wickelstation 1
Hochleistungs-Elektronenkanone

Anwendungen / Funktionen

Korrosionsschutz ZnMg, Ti, Al, Cr, Cu, Sn, Zn
Dekorativ TiN, Cr, Ti, TiO2
Transparenter Kratzschutz SiOX, Al2O3
Hartstoffschicht TiN, TiC, a-C, WC, Al2O3, a-C(:H) (:Ti/W)
Isolation SiOX, Al2O3
Elektrisch leitend
 Al, Cu, Sn, Mo
Löt- und Schweißbarkeit
 Cu, Sn, Si
Photokatalytisch TiO2
Solarabsorber Ti- oder Cr-basierte Cermets
Konversionsschicht SiOX
Hochreflexion SiO2, TiO2
Spezielle Funktionen Al, Cu, Sn

Weitere Informationen