Fraunhofer-Institut für Elektronenstrahl-Plasmagestützte Beschichtungsverfahren erlauben die Herstellung maßgeschneiderter Schichten für viele Anwendungsbereiche. Unsere Stärke ist es, diese plasmagestützten Beschichtungsverfahren für die industrielle Produktion und die Beschichtung großer Flächen zu qualifizieren. Die Kernkompetenz umfasst die PVD-Verfahren plasmaaktivierte Hochratebedampfung und Puls-Magnetron-Sputtern sowie PECVD-Verfahren zur plasmaaktivierten chemischen Dampfphasenabscheidung mit verschiedenen leistungsfähigen Plasmaquellen.
Eine wesentliche Alleinstellung ist die Kombination von äußerst dichten Plasmen mit extrem hohen Beschichtungsraten für die wirtschaftliche Abscheidung von qualitativ hochwertigen Schichten. Die Verbindung von Wirtschaftlichkeit mit Präzision hinsichtlich Prozessführung und Schichteigenschaften ermöglicht neue Anwendungen. Für diese Beschichtungsverfahren entwickeln wir zusätzlich die zur Sicherung der Schichthaftung notwendigen Reinigungsverfahren sowie Plasmavorbehandlungen.
