Workshop  /  09. Dezember 2015

Diagnostik von Prozessplasmen: Möglichkeiten, Grenzen und Anwendungen

Plasmatechnologien für die Oberflächenmodifizierung und Schichtabscheidung sind industriell etabliert und die meisten Produkte der Halbleitertechnik, der Automobilindustrie, der Medizintechnik etc. sind ohne technologische Plasmaprozesse kaum noch vorstellbar.

Zur Gewährleistung der Prozesssicherheit beim Einsatz der Plasmatechnik ist aber eine spezifische Prozesskontrolle unerlässlich. Zur Verbesserung dieser Diagnostik und damit letztlich auch zur Kostenreduktion der Fertigungsprozesse ist eine ständige Weiterentwicklung der relevanten Diagnostiken erforderlich.

Dieser Thematik widmet sich der Workshop „Diagnostik von Prozessplasmen: Möglichkeiten, Grenzen und Anwendungen“. Aus einschlägigen und renommierten Forschungseinrichtungen werden die neuesten Ergebnisse der Plasmadiagnostik vorgestellt und die Umsetzung bei einigen Industriepartnern aufgezeigt. Neben sehr speziellen diagnostischen Methoden werden auch relativ einfach einsetzbare
Methoden vorgestellt, die für einen industrienahen Einsatz gut geeignet sind.

Der Workshop wendet sich damit gleichermaßen an
• Entwickler und Praktiker der Plasmatechnik und dem Anlagenbau sowie
• Physiker und Techniker aus der Grundlagenforschung.

Der Workshop wird veranstaltet von der Europäischen Forschungsgesellschaft Dünne Schichten e.V. (EFDS) unter dem Patronat der Deutschen Gesellschaft für Plasmatechnologie (DGPT), der Universität Kiel, der Ruhr-Universität Bochum und dem Fraunhofer FEP Dresden.

Die EFDS ist als Mitglied der AiF Initiator von Projekten des vom BMWi geförderten Programms „Industrielle Gemeinschaftsforschung“ (IGF) und würde es begrüßen, wenn auf dem Workshop geknüpfte Kontakte zu neuen gemeinsamen Vorhaben führen würden.

Webseite der Veranstaltung