atmoFlex 1250

Motivation

Die im Aufbau befindliche Anlage atmoFlex 1250 ermöglicht dem Fraunhofer FEP eine geschlossene Prozesskette zur Entwicklung und Pilotproduktion von Mehrfachschichtsystemen aus Lack- und Vakuumschichten unter produktionsnahen Bedingungen. In der atmoFlex 1250 sollen künftig optische und dekorative Funktionsschichten, Kratzschutzschichten und durch Prägeprozesse strukturierte Schichten aufgebracht werden.

Um der Verwendung von vorbeschichteten Materialien Rechnung zu tragen, wurde die atmoFlex 1250 mit oberflächenoptimierten Walzen ausgestattet, die darüber hinaus einen großen Durchmesser im Vergleich zu sonst üblichen Walzen aufweist. Dadurch können insbesondere vakuumbeschichtete Substrate sehr belastungsarm prozessiert werden.

 

Parameter der Anlage

Beschichtungsbreite	1200 mm
Substratbreite	1250 mm
Substratdicke	10 ... 300 µm
max. Außendurchmesser	500 mm
Bahngeschwindigkeit	1 ... 150 m/min
Elektronenstrahlenergie	90 ... 150 keV
Prozessmodule	Abwickler mit Schutzfolienvorrichtung Corona-Vorbehandlung Beschichtung mittels Schlitzdüse Nasslamination Vernetzung/Behandlung mittels Elektronenstrahl Kaltlamination Aufwickler mit Schutzfolienhandling