EMO

Laboranlage zur Elektronenstrahlbedampfung

Vakuumbeschichtungsanlage mit Hochleistungselektronenstrahlausrüstung (100 kW) zur Bedampfung und zum Umschmelzen unter aufskalierbaren Bedingungen

Typische Substrate

  • Beschichtung von Platten aus Metall, Kunststoff, Glas oder Keramik mit einer maximalen Abmessung von 100 × 200 mm
  • Beschichtung von dreidimensionalen Bauteilen

Aufgabenspektrum

  • Machbarkeitsstudien
  • Technologieentwicklung, insbesondere neuer Plasmaprozesse bei der Hochratebedampfung und Substratvorbehandlung
  • Entwicklung neuer PVD-Schichtsysteme
  • Grundlegende Untersuchungen zur Elektronenstrahlverdampfung
  • Test von Schlüsselkomponenten unter industrienahen Bedingungen