MAXI

In-line – Vakuum-Beschichtungsanlage für Platten und metallische Bänder

Entwicklung neuer Produkte auf der Basis von neuen Schichtsystemen und komplexen PVD-Technologien unter aufskalierbaren Bedingungen (bis zu einer Beschichtungsbreite von 500 mm)

Typische Substrate

  • Ein- und Doppelseitenbeschichtung von Platten aus Metall, Kunststoff, Glas oder Keramik mit einer maximalen Abmessung von 500 × 500 mm
  • Beschichtung von Metallbändern mit einer maximalen Breite von 300 mm und einer maximalen Dicke von 1,5 mm

Aufgabenspektrum

  • Herstellung großflächiger Beschichtungen:
  • für spezielle Tests
  • als Pilotfertigung von Kleinserien für Fraunhofer FEP-Kunden
  • zur Bemusterung beim Endkunden
  • für die Marktentwicklung
  • Test von Schlüsselkomponenten unter industrienahen Bedingungen
  • Detaillierte Untersuchungen zur Wirtschaftlichkeit

Anwendungen / Funktionen

Korrosionsschutz ZnMg, Ti, Al, Cr, Cu, Sn, Zn;
Dekorativ TiN, Cr, Ti, TiO2
Transparenter Kratzschutz SiOX, Al2O3
Hartstoffschicht TiN, TiC, a-C, WC, Al2O3, a-C(:H) (:Ti/W)
Isolation SiOX, Al2O3
Elektrisch leitend
Al, Cu, Sn, Mo
Löt- und Schweißbarkeit
Cu, Sn, Si
Photokatalytisch TiO2
Solarabsorber Ti- oder Cr-basierte Cermets
Konversionsschicht SiOX
Hochreflexion SiO2, TiO2
Spezielle Funktionen Al, Cu, Sn

Beschichtungsverfahren

  • Hochrate-Elektronenstrahl-Bedampfung
  • Verdampfung von Metallen, Legierungen und Verbindungen
  • plasmaaktivierte Prozessführung (HAD und SAD Prozesse)
  • reaktive Prozessführung
  • Puls-Magnetron-Sputtern
  • andere PVD-Verfahren (z. B. Jet-Verdampfer)
  • PECVD-Prozesse

Anlage und Ausrüstung

Allgemein modulares System mit 8 Kammern
Dimensionen Länge / Breite / Höhe: 14 m / 2,5 m / 4 m
Beschichtungsbreite bis zu 500 mm
Substratgeschwindigkeit 0,001 … 1,0 m/s
Bandabmessungen
  • Breite: bis zu 300 mm
  • Dicke: 0,015 mm bis 1,5 mm
  • max. Masse: 1000 kg
Plattenabmessungen
  • max. Größe: 500 mm × 500 mm
  • max. Masse: 15 kg
1. Elektronenkanone max. Leistung: 160 kW
2. Elektronenkanone max. Leistung: 300 kW
sonstige Ausrüstung
  • Strahlungsheizer: max. Leistung 60 kW
  • Einige Ionenätzer max. Leistung 30 kW
  • Dual-Magnetron-Sputter-System (DMS-System): max. Leistung 30 kW
  • Stromversorgung zur Plasmaaktivierung, Bogenstrom max. 3000 A
  • Magnetfalle zur EB-Verdampfung für die Beschichtung von temperaturempfindlichen Substraten
  • Wendeeinrichtung zur Zweiseitenbeschichtung von Platten
  • Röntgenfluoreszenz-Schichtdicken-Messsystem (XRF)
  • Optische Schichtdickenmessung mit Weißlicht-Spektrometer
Elektronstrahl-Bedampfung
SAD-Prozess
Puls-Magnetron-Sputtern
Wickelstation 1
Beschichtung von Platten und metallischen Bändern
Coils
Magnetfeldverstärkter Ionenätzer
Strahlungsheizer
Hochleistungs-Elektronenkanone
Nachbehandlungsstation
Röntgenfluoreszenz-Schichtdicken-Messsystem (XRF)
Schematische Darstellung der MAXI Anlage