Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEPInvestition in ein neues Rasterkraftmikroskop
Durch die Investition in ein neues Rasterkraftmikroskop NX20 von Park Systems GmbH haben sich die Charakterisierungsmöglichkeiten dünner Schichten am Fraunhofer FEP deutlich verbessert.
Das Gerät verfügt über einen motorisierten XY-Tisch mit einem anfahrbaren Bereich von 150 mm × 150 mm. Die Messungen sind dadurch weitestgehend automatisierbar und mit sehr hoher Effizienz durchführbar.
Im Non-Contact-Mode kann die Rauheit dünner Schichten mit hoher horizontaler und vertikaler Auflösung bestimmt werden. Eine geringe Rauheit wird zum Beispiel für viele optische Schichtsysteme angestrebt, um eine möglichst geringe Lichtstreuung zu erreichen. Ein weiteres wichtiges Anwendungsbeispiel sind Topographie-Abbildungen an epitaktischen Schichten. Durch AFM-Abbildungen kann hier die Art des Schichtwachstums und die Kristallqualität hinsichtlich Gitterdefekten untersucht werden, welche für die Anwendung dieser Schichten entscheidend sind.
Zusätzlich verfügt das Gerät über weitere Modi zur Bestimmung von physikalischen Eigenschaften wie elektrischer Leitfähigkeit, piezoelektrischer Auslenkung oder Elastizitätsmodul, wodurch sich neue, interessante Anwendungsmöglichkeiten ergeben.